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SPIE 出展のお知らせ

2017年02月23日

「SPIE」に出展いたします。実機にお客様ご自身で触れていただき、弊社製品を実感していただければと思います。皆様のご来場を心よりお待ち申し上げております。

会期
2017年2月28日(火)~3月1日(木) 2日間
会場
米国・カリフォルニア
公式サイト
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography/exhibition
小間番号
303
主な出展製品
・液中パーティクルセンサ KS-19F/KS-41B
・コントローラ KE-40B