第25回リオン微粒子計測セミナー
半導体プロセスにおける清浄度管理の最新動向
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「半導体製造の現場で実際の清浄度管理をどのように行っているか」今回は産業を代表する企業の方々から、事例をテーマにご講演いただきます。
また、本セミナーの後援・日本工業出版からは「クリーンテクノロジー」編集委員でもあるソニー株式会社・服部毅氏のご講演をいただきます。
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| 開催日時 |
平成16年9月8日(水）、10：20〜17：00 （9：50から受付開始） |
| 会場 |
 あいおい損保新宿ビル セミナールーム （旧・大東京火災新宿ビル）
JR新宿駅南口/都営新宿線新宿駅
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| 定員 |
200名 |
| 受講料 |
無料 |
| 主催 |
リオン株式会社 （後援：日本工業出版株式会社） |
| 締切日 |
平成16年8月20日（金） |
| 申込方法 |
申込書に必要事項をご記入のうえ下記宛にFAXでお申し込み下さい。
受付を終了いたしました。
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| お申込 |
リオン株式会社 計測器営業部 セミナー係
FAX：042-359-7458
おかげさまで定員となりました。ありがとうございます。 |
| お問い合わせ |
リオン株式会社 計測器営業部
TEL：042-359-7860 |
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プログラム
| 9：30 |
受付開始 |
| 10：20 |
開演・ご挨拶 |
| 講演 |
| 10：30〜11：50 |
半導体産業および技術の将来展望 |
ソニー（株） 服部毅 氏 |
| 11：50〜13：00 |
昼食 |
| 13：00〜13：50 |
最先端半導体クリーンルームにおける清浄度管理 |
富士通（株） 岩坪竜二 氏 |
| 13：50〜14：40 |
半導体製造における薬液の清浄度管理 |
関東化学（株） 小田貴文 氏 |
| 14：40〜15：00 |
休憩 |
| 事例研究 |
| 15：00〜15：30 |
CMP工程における清浄度管理 |
（株）荏原製作所 田中潔 氏 |
| 15：30〜16：00 |
液中パーティクルカウンターによる粒子計測
（標準化について） |
リオン（株） 一条和夫 |
| 16：00〜16：30 |
次世代半導体表面クリーン化技術 |
ソニー（株） 服部毅 氏 |
| 16：30〜16：50 |
質疑応答 |
| 16：50〜17：00 |
ご挨拶・終演 |
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