ニュースリリース

～業界で初めて※原液のまま微粒子の測定が可能～
高粘度試料用の液中微粒子測定システムを発売

2019年09月27日

リオンは、半導体などの製造現場において、業界ではじめて※高粘度試料を希釈せずに、原液のまま微粒子測定が可能な「高粘度試料用の液中微粒子測定システム」を2019年10月1日に発売します。

半導体製造現場では、微細化、高集積化、多層構造化が進んでおり、その際、高粘度KrF、厚膜レジスト、ワニス、ポリイミドなどの高粘度溶剤が使用されています。従来の高粘度試料の測定システムでは、測定可能な試料の粘度に限界があり、希釈して測定していました。しかしながら、この希釈作業は、作業効率の低下や試料への不純物の混入、試料の状態変化などの課題がありました。

このたび発売する「高粘度試料の液中微粒子測定システム」は、試料を希釈することなく、原液のまま測定することができるため、半導体製造現場における作業効率の改善、歩留まりの向上に寄与します。

※2019年9月現在(当社調べ)

高粘度用パーティクルセンサを用いた測定システムの構成例（厚膜レジスト、ワニス、ポリイミドに適応）

高粘度試料の液中微粒子測定システム

測定システムの各製品名称：(左)高粘度用加圧サンプラ KZ-30U、(中上)コントローラ KE-40B1、(中下)高粘度用パーティクルセンサ KS-42C(改)、(右)高粘度試料用シリンジサンプラ HV-1